对于像硅片表面直径小至零点几微米的超微污物粒子,常规的超声波清洗器已无能为力,即使再增加功率密度也无济于事。近来发展了一种兆赫级的高频超声清洗技术,由于其频率高,空化效应已不起作用,清洗的关键因素不是气泡,而是高频压力波的擦洗作用,其对污物的去除率接近100%。高频清洗近来发展较快,主要用于超大规模集成电路芯片上的污物清洗,以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特种污物的清洗。
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